时间: 2024-10-21 10:07:22 | 作者: LED灯具系列
金融界2024年10月9日音讯，国家知识产权局信息数据显现，物元半导体技能（青岛）有限公司请求一项名为“依据要害尺度扫描电子显微镜的堆叠差错丈量与补偿办法”的专利，公开号 CN 118748156 A，请求日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显现，本发明触及一种依据要害尺度扫描电子显微镜(CDSEM)的堆叠差错(Overlay)丈量与补偿办法，包括如下过程：依照设定的结构和/或尺度和/或方位联系在芯片的不同层制备测验结构，该测验结构包括用于量测多个方向尺度的特征；经过光刻曝光对芯片的前层和后层进行曝光，别离确认测验结构的两部分；刻蚀构成测验结构；运用扫描电子显微镜别离丈量前层和后层的测验结构的要害尺度；依据丈量要害尺度，核算后层结构相对于前层结构的偏移量；依据核算得到的偏移量，确认后层与前层结构的偏移状况，并依据偏移量调整光刻机或其他工艺参数以完成层间对准。本发明处理了现存技能中半导体层间堆叠偏移量的丈量，和加工中完成层间对准的技能问题。
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